ОАО «МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ»
Проектирование и изготовление фотошаблонов для проекционной фотолитографии
В ОАО "МИНСКИЙ НИИ РАДИОМАТЕРИАЛОВ" организована Отраслевая лаборатория проектирования и разработки фотошаблонов, которая позволяет производить продукцию, соответствующую мировым стандартам SEMI Pxx в кратчайшие сроки.
Фотошаблоны применяются для оптической или контактной фотолитографии при производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат.
ТИПЫ ПОКРЫТИЙ:
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
|
Минимальный размер элемента |
0,7 мкм |
| Толщина | от 2,2 до 6,4 мм |
| Габаритные размеры заготовок | 102 (4"), 127 (5"), 152 (6"), 178 (7") мм |
| Неровность края элемента | не более 0,3 мкм |
| Скругление угла элемента | не более 0,5 мкм |
| Погрешность стыковки полос | не более ±40 нм |
| Погрешность совмещения | не более ±70 нм |
| Материал подложки |
стекло К8, кварц |
Прецизионные фотошаблоны изготавливаются на современном оборудовании (генераторе изображений лазерном многоканальном ЭМ-5189-02), обладают высокой точностью неометрических размеров элементов рисунка и шага между фрагментами, стабильностью рисунка и его размеров с течением времени, высокой контрастностью изображения.
МЫ ПРЕДЛАГАЕМ ПОЛНЫЙ ЦИКЛ ПРОИЗВОДСТВА:
НАШИ ПРЕИМУЩЕСТВА:
- Возможность исполнения индивидуальных заказов от 1 изделия;
- Сжатые сроки выполнения работ - оперативное согласование и доработка чертежей, текущее консультирование. Чертежи принимаются в формате, определяемом Заказчиком;
- Изготовление 1 фотошаблона в срок от 1 рабочего дня;
- Выполнение всего комплекса работ: от проектирования изделия до его изготовления.